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C-25型(4英寸)高精度單面光刻機

高精度單面光刻機

C-25型(4英寸)高精度單面光刻機實景圖

主要用途

主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研

制和生產。

由于本機找平機構先進,找平力小、使本機不僅適合各型基片的

曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓

形基片和小型基片的曝光。

主要構成

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、采用高

均勻性的多點光源、 蠅眼、(LED)曝光頭,PLC電控系統、氣動

系統、真空管路系統、直聯式無油真空泵、二級防震工作臺和附件箱

等組成。

主要功能特點

適用范圍廣

適用于Φ100以下(***小尺寸為Φ5mm),厚度5mm以下的各種基片 (包括非圓形基片)的對準曝光。

⒉ 分辨率高

采用高均勻性的蠅眼曝光頭,非常理想的三點式自動找平機構和穩定可靠的真空密著裝置,使本機的曝光分辨率大為提高。

⒊ 套刻精度高、速度快

 采用版不動片動的下置式三層導軌對準方式,使導軌自重和受力

方向保持一致,自動消除間隙;承片臺升降采用無間隙滾珠直進導軌、

氣動式Z軸升降機構和雙簧片微分離機構,使本機片對版在分離接觸

時漂移特小,對準精度高,對準速度快,從而提高了版的復用率和

產品的成品率。     

⒋ 可靠性高

采用PLC控制器、進口電磁閥和按鈕、獨特的氣動系統、真空管路

系統和經過精密機械制造工藝加工的零件,使本機具有非常高的可

靠性且操作、維護、檢修簡便。

⒌ 特設碎片處理功能

解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引

起的版片無法對準的問題。

  

 

主要技術指標

*蠅眼曝光頭、可調光強的光欄

*曝光類型單面

*曝光面積:≥φ115mm

* 曝光不均勻性:≤±3%

* 曝光強度:≥20mw

* 曝光分辨率:1μm

*曝光模式可選擇一次曝光或套刻曝光模式

*掃描范圍:X:±40mm   Y:±35mm

*對準范圍:X、Y粗調±3mm、細調±0.3mm Q粗調±15°、

細調±3°對準精度:1μm

*分離量:0~50μm可調

*接觸分離漂移:≤1μm

*密著曝光方式密著曝光可實現硬接觸、 軟接觸和微力接觸曝光

*找平機構三點式自動找平

*顯微系統雙視場CCD系統;連續可調物鏡0.7X~4.5X連續變倍

計算機圖像處理系統

* 掩模版尺寸:3×3(英寸)、4×4(英寸)、5×5(英寸)

* 基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″

*基片厚度:≤5 mm

* 曝光燈功率直流350W

*曝光定時:0~999.9秒可調

*曝光頭轉位氣動

*電源單相AC220V 50Hz功耗≤1kW

*潔凈空氣壓力:≥0.4Mpa

*真空度:-0.07MPa~-0.09Mpa

*尺寸:920×680×1600(L×W×H)mm

*重量:~170kg

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